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  • 中国光刻机突破5纳米 国产28纳米光刻机2023

    近年来,中国在半导体领域取得了显著的进展,特别是在光刻机技术方面。光刻机是半导体制造中的核心设备,其精度直接决定了芯片的性能。长期以来,高端光刻机市场一直被荷兰的ASML公司所垄断,中国在这一领域的突破显得尤为重要。最近,中国成功研发出5纳米光刻机,这一消息在...

    2024-09-23